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J-GLOBAL ID：202202291561605099   整理番号：22A0427734

TiドープCu_2O薄膜:DCマグネトロンスパッタリングおよび構造的および光学的研究【JST・京大機械翻訳】

Ti Doped Cu₂O Thin Films: DC Magnetron Sputtering and Structural and Optical Studies

著者 (3件)： Lavanya Mekala (Sri Krishnadevaraya University, Department of Physics Ananthapuram India Andhra Pradesh) ,  Ratnam Srirangam Sunita (Malla Reddy Engineering College for Women (Autonomous), Department of Physics Secunderabad India Telangana) ,  Rao Thota Subba (Sri Krishnadevaraya University, Department of Physics Ananthapuram India Andhra Pradesh)
資料名： Materials Science Forum  (Materials Science Forum)
巻： 1048  ページ： 158-163  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0716B  ISSN： 0255-5476  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiドープCu_2O薄膜を,室温のガラス基板上にDCマグネトロンスパッタリングシステムを用いて,35sccmの正味流(Ar+O_2)で,34/1,33/2,32/3および31/4の異なるArgon/酸素ガス流量比で調製した。X線回折,電界放出走査電子顕微鏡およびUV-可視分光を用いて,ガス混合物が膜特性に及ぼす影響を調べた。XRDの結果から,酸素含有量が減少すると,(111)ピークの振幅が増加し,35.67の散乱角でピークが増加し,膜は単純な立方晶構造を示すことが明らかになった。FESEM画像は,薄膜の粒度が均一モデルに均一に分布し,特に細孔と亀裂を含むことを示した。31/4で堆積した膜は可視領域で98%高い透過率を示した。Copyright 2022 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  亀裂 ,  混合気体 ,  *薄膜 ,  X線回折分析 ,  *ドーピング ,  立方晶系 ,  透過率
準シソーラス用語： 可視領域 ,  散乱角 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  ガラス基板 ,  流量比 ,  *DCマグネトロンスパッタリング ,  可視分光法 ,  酸素含有量 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 光バンドギャップ ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  Argon/酸素流量比

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ti ,  ドープ ,  薄膜 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  光学 ,  研究