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J-GLOBAL ID:202202291574946625   整理番号:22A0640384

メムキャパシタに基づく高性能でロバストな超低電力SRAMセルの新しい設計【JST・京大機械翻訳】

A novel design of high performance and robust ultra-low power SRAM cell based on memcapacitor
著者 (4件):
資料名:
巻: 33  号: 16  ページ: 165202 (16pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,6FinFET2メモリキャパシタ(6T2MC)非揮発性静的ランダムアクセスメモリ(NVSRAM)を提案した。この設計では,2つのメムキャパシタを非揮発性メモリ要素として用いた。提案したセルは,従来のNVSRAMと比較して,読み出しと書き込み操作において顕著な改善を提供するとき,データ損失に対して柔軟である。新しいNVSRAM設計の性能を,特定のナノメータ特徴サイズでの読取と書き込み動作の観点から評価した。さらに,提案した6T2MC細胞を8T2R,8T1R,7T1Rおよび7T2R細胞と比較した。結果は,6T2MCが,7T2Rと7T1Rセルと比較して,それぞれ5.50%低い書き込み遅延と98.35%低い読取遅延を持つことを示した。6T2MCセルは,7T2Rと7T1Rセルより38.86%低い電力消費と23.80%低い漏れ電力を示した。提案した細胞は,8T2R,8T1R,7T2Rおよび7T1R細胞と比較して,HSNM,RSNMおよびWSNMに関して有意に改善された。電力消費,データ読取/書込み遅延,およびSNMのような重要なセルパラメータは著しく改善される。MOSFET上のFinFETの優れた特性とメムキャパシタとのこの技術の組合せは,提案した設計の著しい改善をもたらす。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (5件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  トランジスタ  ,  基礎腫よう学一般  ,  半導体集積回路  ,  静電機器 

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