文献

J-GLOBAL ID：202202291682632821   整理番号：22A0316785

反ガス水和物表面:展望,進歩と展望【JST・京大機械翻訳】

Anti-gas hydrate surfaces: perspectives, progress and prospects

著者 (6件)： Wang Feng (NTNU Nanomechanical Lab, Department of Structural Engineering, Norwegian University of Science and Technology (NTNU), Trondheim 7491, Norway. [e-mail]) ,  Ma Rui ,  Xiao Senbo ,  English Niall J. ,  He Jianying ,  Zhang Zhiliang
資料名： Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability  (Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻： 10  号： 2  ページ： 379-406  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0204B  ISSN： 2050-7488  CODEN： JMCAET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガス-ハイドレート形成とその後のガス-パイプライン閉塞は,深海資源の探査と輸送における流れ保証と安全性の両方を確保するために極めて重要である。現在まで,化学物質と熱エネルギーを使用する活性方法が,望ましくないハイドレート蓄積問題に取り組むために主に適用された。しかし,これらの方法は,それ自身のコストがかかるだけでなく,避けられない環境問題をもたらす。表面改質技術と先進表面設計の急速な発展は,ガス-水和物形成によって提起される課題を緩和するための代替解決策を提供する。新しく報告された表面は,ガス-水和物の核形成と堆積を抑制し,水和物の付着を低下させる大きな可能性を有し,これは受動的な抗水和物戦略を可能にした。本レビューにおいて,3つの現在の研究優先事項が指摘された。最初に,固体表面とガスハイドレートの間の固有相互作用を精査し,水和物核形成における表面特性の複雑な役割の解明に光を当てる。第2に,ハイドレート堆積機構および水和物沈着を抑制することができる表面は,よく理解され,そして,実際に,それらの設計で操作される必要がある。経過中,ガス-ハイドレート堆積は水和物凝集の逐次プロセスよりも多く,表面の分子化学/物理学の根底にある。第3に,ナノから連続体スケールへのハイドレート付着は,1つの領域から他の領域への移行に関して,よく相関し理解する必要がある。このような方法で,これは低い水和物付着を有する表面の設計を容易にするであろう。表面と水和物の核形成,堆積と付着の間の基本的関係に関する徹底的なレビューの後,著者らは,ハイドレートの核形成を抑制し,水和物の堆積を抑制し,水和物の付着を低下させて,次世代の多機能ハイドレート-疎油性表面の設計と創造のための包括的な知識ベースを開発する際の興味深い方向に対する展望から,ガス-ハイドレート-抑制表面における有望な進歩を議論する。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 核形成 ,  凝集 ,  相互作用 ,  付着 ,  分子 ,  化学 ,  流動 ,  *水和物 ,  シーケンシャル処理 ,  性質 ,  沈着 ,  ガスハイドレート ,  深海
準シソーラス用語： 環境問題 ,  熱エネルギー ,  疎油性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  分子化合物  (CE02000C) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E)

タイトルに関連する用語 (1件)： 展望