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J-GLOBAL ID:202202294792877302   整理番号:22A0003181

ALD多層薄膜からのNiリッチ陰極形成の微視的研究【JST・京大機械翻訳】

Microscopic study of Ni-rich cathode formation from ALD multilayered thin films
著者 (4件):
資料名:
巻: 307  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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温度条件は,有望なカソード材料の結晶構造形成にとって重要であり,それらの更なる性能とサイクル寿命を決定する。熱処理前後の多層薄膜の詳細な解析の結果を示した。調査した多層構造は非晶質ニッケルドープLi-O層の二層系とSi基板上の原子層堆積により得られたNiO・CoO層から成る。800°C,5分間のアニーリングは,サイズが50-150nmの表面上にエネルギーが好ましい球状Li-Ni-Co-O構造を有する結晶膜を形成するのに十分であることを示した。EDXを用いた熱処理後の化学マッピングは,Niリッチ(球状構造)とCo-O中間層の形成を示した。電子エネルギー損失分光法の結果は,上部Niリッチ層中のLiの存在を確認し,その結晶構造に埋込まれた。X線と電子回折はリチウム含有ニッケルとコバルト酸化物の多結晶カソード構造を示した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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二次電池  ,  酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
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