特許

J-GLOBAL ID：202203000065363214

レーザ加工装置、製造方法、校正方法、および、製造物

発明者： 三輪 真弘 ,  鈴木 慎太郎 ,  石代 健晃 ,  岡本 康寛
出願人/特許権者： NTN株式会社
代理人 (1件)： 弁理士法人深見特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-060993
公開番号（公開出願番号）：特開2022-157004
出願日： 2021年03月31日
公開日（公表日）： 2022年10月14日
要約：

【課題】レーザ光の出力を安定させること。 【解決手段】レーザ加工装置は、レーザ光を製造物に照射する照射部と、照射部と製造物との相対位置を変化させる駆動部と、1回のレーザ光の照射の工程におけるレーザ光の出力の指令値として照射部の特性に応じた複数の異なる指令値を取得する取得部と、工程において、照射部と製造物との相対位置を変化させ(ステップS123)、取得部によって取得された複数の異なる指令値にしたがって出力を変化させながらレーザ光を製造物に照射する(ステップS124~ステップS127)よう、駆動部および照射部を制御する制御部とを備える。 【選択図】図6

請求項（抜粋）：

レーザ光を製造物に照射する照射部と、 前記照射部と前記製造物との相対位置を変化させる駆動部と、 1回のレーザ光の照射の工程におけるレーザ光の出力の指令値として照射部の特性に応じた複数の異なる指令値を取得する取得部と、 前記工程において、前記照射部と前記製造物との相対位置を変化させ、前記取得部によって取得された複数の異なる前記指令値にしたがって出力を変化させながらレーザ光を前記製造物に照射するよう、前記駆動部および前記照射部を制御する制御部とを備える、レーザ加工装置。

IPC (1件)：

B23K 26/00

FI (1件)：

B23K26/00 N

Fターム (8件)：

4E168AA00 ,  4E168AD07 ,  4E168AD11 ,  4E168CB03 ,  4E168DA26 ,  4E168DA28 ,  4E168DA42 ,  4E168KA04

引用特許：

出願人引用 (2件)

• レーザー光照射装置およびレーザー光照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-055553   出願人：住友化学株式会社, ハードラムカンパニーリミテッド
• 反射光を抑制しながらレーザ加工を行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2016-078281   出願人：ファナック株式会社