特許

J-GLOBAL ID：202203002094193096

間葉系幹細胞からインスリン産生細胞を製造する方法、インスリン産生細胞、細胞構造体および医薬組成物

発明者： 中村 健太郎 ,  島田 光生 ,  池本 哲也
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社 ,  国立大学法人徳島大学
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-061665
公開番号（公開出願番号）：特開2022-079721
出願日： 2022年04月01日
公開日（公表日）： 2022年05月26日
要約：

【課題】本発明の課題は、間葉系幹細胞から、十分なグルコース応答性を有するインスリン産生細胞を製造する方法、十分なグルコース応答性を有するインスリン産生細胞、上記インスリン産生細胞を含む細胞構造体、および医薬組成物を提供することである。 【解決手段】本発明によれば、(a)複数個の生体親和性高分子ブロックと、複数個の間葉系幹細胞とをインキュベートすることによって細胞構造体を製造する工程、(b)工程(a)においてインキュベートする前の間葉系幹細胞、工程(a)においてインキュベートしている間葉系幹細胞、または工程(a)で製造した細胞構造体のいずれか一以上を、GLP-1受容体作動薬を含む培地中で培養する工程、および(c)工程(a)または工程(b)で得られた細胞構造体を、水溶性ビタミンおよび肝細胞増殖因子を含む培地中で培養する工程を含む、間葉系幹細胞からインスリン産生細胞を製造する方法が提供される。 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

間葉系幹細胞からインスリン産生細胞を製造する方法であって、 (a)複数個の生体親和性高分子ブロックと、複数個の間葉系幹細胞とをインキュベートすることによって、複数個の生体親和性高分子ブロックと、複数個の間葉系幹細胞とを含み、複数個の前記間葉系幹細胞の隙間に、少なくとも1個の前記生体親和性高分子ブロックが配置されている細胞構造体を製造する工程、 (b)工程(a)においてインキュベートする前の間葉系幹細胞、工程(a)においてインキュベートしている間葉系幹細胞、または工程(a)で製造した細胞構造体のいずれか一以上を、GLP-1受容体作動薬を含む培地中で培養する工程、および (c)工程(a)または工程(b)で得られた細胞構造体を、水溶性ビタミンおよび肝細胞増殖因子を含む培地中で培養する工程、 を含む方法。

IPC (4件)：

C12N 5/077 ,  A61P 3/10 ,  A61K 35/12 ,  A61K 35/39

FI (4件)：

C12N5/077 ,  A61P3/10 ,  A61K35/12 ,  A61K35/39

引用文献：

審査官引用 (3件)

• Transplant International, Abstract of the 18th Congress of the European Society for Organ Transplant, 201709, Vol. 30(Suppl. 2), p. 518
• 再生医療, 201702, Vol. 16, Suppl. 2017, p. 307
• メディカル・サイエンス・ダイジェスト, 2014, Vol. 40,No. 12, p. 46-49