特許

J-GLOBAL ID：202203002998014469

スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びに磁気記録媒体の製造方法

発明者： 荻野 真一
出願人/特許権者： JX金属株式会社
代理人 (1件)： アクシス国際特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018036501
特許番号：特許第7005647号
出願日： 2018年09月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】Fe、Co、Cr、及びPtから成る群から選択される1種以上の金属相と、C及びBNから成る群から選択される1種以上の非金属相とを含むスパッタリングターゲットであって、A≦40であり、A/B≦1.7である、スパッタリングターゲット。(ただし、A:スパッタ面に対する垂直断面を撮影した組織写真における、垂直方向に引いた長さ500μmの線分上の金属相と非金属相の境界の数 B:スパッタ面に対する垂直断面を撮影した組織写真における、水平方向に引いた長さ500μmの線分上の金属相と非金属相の境界の数 )

IPC (12件)：

C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  C23C 14/06 ( 200 6.01) ,  C22C 5/04 ( 200 6.01) ,  C22C 30/00 ( 200 6.01) ,  C22C 30/02 ( 200 6.01) ,  C22C 38/00 ( 200 6.01) ,  C22C 27/06 ( 200 6.01) ,  C22C 1/05 ( 200 6.01) ,  B22F 3/14 ( 200 6.01) ,  B22F 3/15 ( 200 6.01) ,  G11B 5/65 ( 200 6.01) ,  G11B 5/851 ( 200 6.01)

FI (12件)：

C23C 14/34 A ,  C23C 14/06 T ,  C22C 5/04 ,  C22C 30/00 ,  C22C 30/02 ,  C22C 38/00 304 ,  C22C 27/06 ,  C22C 1/05 A ,  B22F 3/14 D ,  B22F 3/15 M ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/851