特許

J-GLOBAL ID：202203003426106482

機器洗浄装置および方法

発明者： モストヴォイ, ロマン エム. ,  パリーク, スケトゥ アルン ,  イーガン, トッド
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：US2018059651
特許番号：特許第7076559号
出願日： 2018年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 洗浄ヘッドを、物体の表面に沿って移動させることと、 超臨界二酸化炭素流体を、前記物体の前記表面に供給することと、 前記超臨界二酸化炭素流体および汚染物質を、前記物体から除去することと、真空ポンプによって検出器に吸引された前記汚染物質の1つまたは複数の測定値を決定することと、前記真空ポンプと前記検出器とに連結するコレクタに前記真空ポンプによって前記検出器から前記汚染物質のサンプルを収集することと、前記洗浄ヘッドに連結された光チャネルと連結したアナライザを動作させて前記物体の前記表面の汚染レベルを決定することと、を含む方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B08B 7/00 ( 200 6.01) ,  B08B 3/08 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/304 651 Z ,  H01L 21/304 643 Z ,  B08B 7/00 ,  B08B 3/08 Z