特許
J-GLOBAL ID:202203003748654663
溶射材料、それを用いた溶射方法、溶射皮膜
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
田中 秀▲てつ▼
, 山田 勇毅
, 森 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-201300
公開番号(公開出願番号):特開2022-089069
出願日: 2020年12月03日
公開日(公表日): 2022年06月15日
要約:
【課題】希土類シリケートを溶射した際に、実使用環境下に長時間保持しても安定性を維持できる溶射材料を提供する。
【解決手段】希土類シリケートと、Si酸化物又は酸素と化合しSi酸化物を形成する化合物又はこれらの組み合わせから選択されるSi系化合物とを含む溶射材料を用いる。これによりSi系化合物が溶射皮膜形成持及びその後の高温加熱時に酸化することによって、SiO
2
成分の揮発分を補う。
【選択図】図3
請求項(抜粋):
希土類シリケートと、Si酸化物又は酸素と化合しSi酸化物を形成する化合物又はこれらの組み合わせから選択されるSi系化合物とを含む溶射材料。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (8件):
4K031AA02
, 4K031AA05
, 4K031CB03
, 4K031CB08
, 4K031CB14
, 4K031CB18
, 4K031CB48
, 4K031DA04
引用特許:
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