特許
J-GLOBAL ID：202203004359736219
PVDスパッタチャンバ向けのバイアス可能なフラックスオプティマイザ/コリメータ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (10件)：
田中 伸一郎
, 弟子丸 健
, ▲吉▼田 和彦
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
, 近藤 直樹
, 那須 威夫
, 鈴木 信彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：US2016053970
特許番号：特許第7034912号
出願日： 2016年09月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 コリメータ部分であって、 第1の表面と、前記第1の表面から離れて対向する第2の表面を備え、前記第2の表面は、前記第1の表面から第1の距離にある第1の部分と、前記第1の表面から第2の距離にある第2の部分と、前記第1の部分と前記第2の部分の間に延びる第3の部分とを有し、 更に、 前記第1の表面から前記第2の表面に延びる個別の開孔を画定および分離する壁を有するハニカム構造を備え、前記個別の開孔は、 中心領域内の第1の複数の六角形開孔であって、前記第1の複数の六角形開孔の各々が第1のアスペクト比を有し、前記第1の表面から前記第2の表面の前記第2の部分に延びている、第1の複数の六角形開孔と、 周辺領域内の第2の複数の開孔であって、前記第2の複数の開孔の各々が前記第1のアスペクト比より小さい第2のアスペクト比を有し、前記第1の表面から前記第2の表面の前記第1の部分に延びている、第2の複数の六角形開孔と、 前記周辺領域から前記中心領域に配置された遷移領域内の第3の複数の開孔とを含み、 前記遷移領域の前記第3の複数の開孔の各々を画定する前記壁の少なくとも1つが、前記第2の表面の前記第3の部分を備え、前記第2の表面の前記第3の部分が円錐形の突起に沿って存在する、コリメータ部分と、 前記コリメータに結合された遮蔽部分であって、 頂部リング、 半径方向外方へ延びる前記頂部リングの下の支持レッジ、および 前記支持レッジから前記第2の複数の開孔の下の高さまで下方へ延びる円筒形バンドを備える遮蔽部分と を備え、前記円筒形バンドは、 第1の略垂直な部分と、 前記第1の略垂直な部分から下方に延びている半径方向内方へ傾斜した部分と、 前記半径方向内方へ傾斜した部分から下方に延びている第2の略垂直な部分とを備え、 前記第2の略垂直な部分は、前記第1の複数の六角形開孔の下の高さまでは延びておらず、 前記半径方向内方へ傾斜した部分は、前記周辺領域内の前記第2の複数の開孔の一部分にわたって延びている、コリメータアセンブリ。
IPC (2件)：
C23C 14/34 ( 200 6.01)
, H01L 21/203 ( 200 6.01)
C23C 14/34 T
, H01L 21/203 S
