特許

J-GLOBAL ID：202203006649934327

荷電粒子ビーム軸合わせ装置、荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム軸合わせ方法

発明者： 石川 丈寛
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (3件)： 福島 祥人 ,  中川 雅博 ,  澤村 英幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-058281
公開番号（公開出願番号）：特開2019-169433
特許番号：特許第7047523号
出願日： 2018年03月26日
公開日（公表日）： 2019年10月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】対物レンズの磁場により荷電粒子ビームを集束して試料に照射し、前記荷電粒子ビームを走査部により試料の表面で2次元的に走査させるとともに、前記荷電粒子ビームを偏向部により偏向することにより前記荷電粒子ビームの軸と前記対物レンズの光軸との位置関係を調整可能な荷電粒子ビーム照射装置において前記荷電粒子ビームの軸を前記対物レンズの光軸に合わせる荷電粒子ビーム軸合わせ装置であって、 前記対物レンズの磁場強度を第1の強度および第2の強度に設定する設定部と、 前記第1の強度と前記第2の強度との間の強度差に基づいて、磁場強度が前記第1の強度に設定された場合と磁場強度が前記第2の強度に設定された場合との間での前記荷電粒子ビームの回転量の差を回転量差として特定する回転量差特定部と、 磁場強度が前記第2の強度に設定されたときに、前記回転量差特定部により特定された回転量差を相殺する回転を前記荷電粒子ビームに付与するように前記走査部を制御する走査制御部と、 磁場強度が前記第1の強度に設定されたときに試料からの荷電粒子に基づいて第1の走査像を生成し、磁場強度が前記第2の強度に設定されたときに試料からの荷電粒子に基づいて第2の走査像を生成する生成部と、 前記第1の走査像と前記第2の走査像との相対的な位置関係を特定する位置関係特定部と、 前記位置関係特定部により特定された位置関係に基づいて、前記第1の走査像の位置と前記第2の走査像の位置とが一致するように前記偏向部を制御する偏向制御部とを備える、荷電粒子ビーム軸合わせ装置。

IPC (3件)：

H01J 37/22 ( 200 6.01) ,  H01J 37/147 ( 200 6.01) ,  H01J 37/04 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01J 37/22 502 H ,  H01J 37/147 B ,  H01J 37/04 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 荷電粒子線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-333534   出願人：株式会社日立製作所
• 走査電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-134849   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
• 走査型荷電粒子ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-349715   出願人：日本電子株式会社

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-333534   出願人：株式会社日立製作所
• 走査電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-134849   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
• 走査型荷電粒子ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-349715   出願人：日本電子株式会社