特許

J-GLOBAL ID：202203006692968383

イオン注入のためのアンチモン含有材料

発明者： アーロン・レイニッカー ,  アシュウィニ・ケイ・シンハ ,  ダグラス・シー・ヘイダーマン
出願人/特許権者： プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 特許業務法人浅村特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：US2018047417
特許番号：特許第7014888号
出願日： 2018年08月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 アンチモン含有イオンを注入してn型電子デバイス構造を生じさせるためのイオン注入に好適な組成物であって、 アンチモン含有材料であって、前記アンチモン含有材料が、周囲温度にて化学的に安定しており、かつ準大気圧下で、液相の貯蔵条件下で維持され、更に、前記貯蔵条件が、50ppm以下の水分を有する水分なしの環境を特徴とする、アンチモン含有材料を含み、 前記アンチモン含有材料が、非炭素含有化学式によって表され、 前記液相の前記アンチモン含有材料が、下流の真空圧力条件に応答して十分な蒸気圧を及ぼすように適合された、対応する気相と実質的な平衡状態にある液相である、組成物。

IPC (5件)：

C23C 14/24 ( 200 6.01) ,  H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  H01J 27/08 ( 200 6.01) ,  H01J 37/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/265 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C23C 14/24 E ,  H01J 37/317 Z ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/265 603 A ,  H01L 21/265 F