特許

J-GLOBAL ID：202203006766627575

漏斗状ノズルの寸法ばらつきの低減

発明者： デブラバンダー,グレゴリー ,  ニポムニシ,マーク
出願人/特許権者： フジフィルム ディマティックス, インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 柳田 征史 ,  坂野 博行 ,  高橋 秀明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：US2018019208
特許番号：特許第7001698号
出願日： 2018年02月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ノズルを形成する方法であって、該方法は、 基板の上層に、第1の幅を有する第1の開口を形成する工程であって、前記基板が、前記上層および該上層と異なる材料の下層の第2の層を含む工程、 パターン層を、該パターン層が前記基板の上層の上にあるように前記基板の上面に形成する工程であって、前記パターン層が、前記上層の前記第1の開口に亘る第2の開口を有し、前記第2の開口が前記第1の幅よりも大きい第2の幅を有する工程、 前記基板の前記上面で終端する湾曲側面を形成するため、前記パターン層をリフローする工程、 前記上層の前記第1の開口の外縁で前記第2の層内に直立壁凹所を形成して、前記直立壁凹所の境界を画成するため、前記基板の前記上層の前記第1の開口を通して、前記基板の前記第2の層をエッチングする工程であって、前記直立壁凹所が前記第1の幅と下面と前記基板の前記上面に対して実質的に垂直な側面とを有する工程、および 前記直立壁凹所が形成された後、前記直立壁凹所の前記下面および前記側面がエッチングに曝露されている間に、前記パターン層の前記湾曲側面、前記基板の前記上層および前記基板の前記第2の層をエッチングする工程を含み、ここで、該エッチングにより、前記直立壁凹所を、該直立壁凹所の下部に徐々にかつ滑らかに接合する湾曲側壁または前記下面で終端する湾曲側壁を有する漏斗状凹所へ変形させる、方法。

IPC (3件)：

B41J 2/16 ( 200 6.01) ,  G03F 7/40 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B41J 2/16 401 ,  B41J 2/16 305 ,  B41J 2/16 509 ,  G03F 7/40 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/302 105 A