特許
J-GLOBAL ID:202203007950935700

偏光レティクル検査方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):US2018040433
特許番号:特許第7053683号
出願日: 2018年06月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 標本の検査向けに偏光を制御及び計測するシステムであって、 照明光を生成し標本へと差し向ける照明光学系サブシステムであり、その照明光の偏光状態を制御する2個以上の照明側偏光部材を有する照明光学系サブシステムと、 前記照明光に応じ前記標本の非パターン化エリアからもたらされる出射光を集光する集光光学系サブシステムであり、標本又はその付近における照明光の偏光状態を計測する少なくとも第1及び第2集光側偏光部材、並びにそれら第1及び第2集光側偏光部材により偏光状態が調整された後に当該出射光を検出するセンサ、を備える集光光学系サブシステムと、 コントローラと、 を備え、そのコントローラが、 本システムを特定の動作モードにセットアップする動作と、 第2集光側偏光部材を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第1集光側偏光部材の回動角を漸増させる動作と、 第1集光側偏光部材の回動毎に前記センサで強度信号を計測する動作と、 第1集光側偏光部材を静止状態に保ちながら複数通りの回動を通じ第2集光側偏光部材の回動角を漸増させる動作と、 第2集光側偏光部材の回動毎に前記センサで強度信号を計測する動作と、 本システムに係る複数の偏光状態及び偏光部材パラメタのモデルであり、第1及び/又は第2集光側偏光部材の回動毎に計測された強度信号を模擬するものを、生成する動作と、 前記モデルに依拠し本システム向けの偏光状態及び偏光部材パラメタを特定する動作と、 を実行するよう構成され、 第1及び第2集光側偏光部材が第1及び第2波長板を備え、前記第1波長板に係るリターダンス値と前記第2波長板に係るリターダンス値が異なり、その合成リターダンス値が半波長以上であるシステム。
IPC (2件):
G01N 21/956 ( 200 6.01) ,  H01L 21/66 ( 200 6.01)
FI (2件):
G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J

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