特許
J-GLOBAL ID：202203008337291901
階層構造粒子および階層構造粒子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-217222
公開番号（公開出願番号）：特開2021-021083
特許番号：特許第7031900号
出願日： 2016年11月07日
公開日（公表日）： 2021年02月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】架橋剤による架橋構造が導入され、フリーラジカル重合によって形成された、荷電基を有さないポリマーを含むゲルからなるコアと、 その外側に、前記コアをシードとして、荷電基を有さないモノマーと該モノマーとは反応性比の異なるカルボキシル基またはスルホン酸基の荷電基を有するコモノマーとを沈殿重合によって共重合して得られ、架橋剤による架橋構造が導入されたポリマーを含むゲルからなり、内部に荷電基が偏在する1のシェル層または当該シェル層を積層形成した複数のシェル層とで構成されるコアシェルゲル粒子を、シード粒子として、 前記シード粒子に対し異なる成分の疎水性モノマーを乳化重合したポリマーが、前記コアに形成され、さらに前記1または複数のシェル層において層状に形成された、階層構造粒子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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