特許
J-GLOBAL ID：202203009941531216
毛髪化粧料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
片岡 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-216798
公開番号（公開出願番号）：特開2019-094327
特許番号：特許第7003898号
出願日： 2018年11月19日
公開日（公表日）： 2019年06月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 次の成分(A)~(C)を含有し、成分(A)に対する成分(C)の質量比(C)/(A)が0.7以上10以下である毛髪化粧料。(A)下記一般式(1)で表される化合物又はその塩 0.05質量%以上3質量%以下〔式中、破線はπ結合の存在又は不存在を示す。R1は水酸基又はアセトキシ基を示す。R2は水素原子、又は-COOR(Rは水素原子、メチル基又はエチル基)を示す。R3は水素原子、アセチル基、メチル基又はエチル基を示す。〕(B)カチオン電荷密度が0.05meq/g以上3.5meq/g以下であり、ジアリル第4級アンモニウム塩に由来する構成単位を有さないカチオン性ポリマー 0.05質量%以上10質量%以下(C)下記一般式(2)で示される構成単位及び下記一般式(3)で示される構成単位からなる群から選ばれる1種以上のカチオン性構成単位と、アニオン性構成単位とを有する両性ポリマー〔式中、R4及びR5はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上18以下のアルキル基、アリール基、ヒドロキシアルキル基、アミドアルキル基、シアノアルキル基、アルコキシアルキル基、又はカルボアルコキシアルキル基を示す。R6及びR7はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上3以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。Y-は陰イオンを示す。〕
IPC (6件)：
A61K 8/49 ( 200 6.01)
, A61K 8/73 ( 200 6.01)
, A61K 8/81 ( 200 6.01)
, A61K 8/46 ( 200 6.01)
, A61Q 5/02 ( 200 6.01)
, A61Q 5/10 ( 200 6.01)
A61K 8/49
, A61K 8/73
, A61K 8/81
, A61K 8/46
, A61Q 5/02
, A61Q 5/10
