付加製造システム及び方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：青木宏義 , 天田昌行 , 大菅義之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-521392
特許番号：特許第6987051号
出願日： 2016年10月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】第1の波長で第1の光ビームを放射するための第1のレーザと、前記第1の波長とは異なる第2の波長で第2の光ビームを放射するための第2のレーザと、共通のビームを形成するビーム整形光学系であって、共通のビーム中の前記第1の波長の前記第1の光ビームを通過させ、前記第2の波長の前記第2の光ビームを反射するための少なくとも1つの波長フィルタを含む前記ビーム整形光学系と、前記共通のビームを受け取り、2次元のパターニングされたビームとして光を放射するための光学的アドレス指定可能光パターニングユニットであって、2次元のパターニングされた前記ビームを形成するために要求されないエネルギーを廃棄する前記光学的アドレス指定可能光パターニングユニットと、 2次元のパターニングされた前記ビームを受け取り、それを2次元画像として粉末床上に集束するための画像中継器と、廃棄された前記エネルギーを前記粉末床に向けて再パターニングすることによって再利用するための廃棄エネルギー処理ユニットであって、前記廃棄エネルギー処理ユニットは、発電機、熱管理システム、及びエネルギーダンプの内の1つ以上を含み、前記廃棄エネルギー処理ユニットは、廃棄された前記エネルギーを前記光学的アドレス指定可能光パターニングユニットに向けることに加えて、廃棄された前記エネルギーを発電機、熱管理システム、及びエネルギーダンプに向けるための1つ以上の中継器を更に含む、前記廃棄エネルギー処理ユニットとを含む、付加製造システム。

IPC (10件)：

B23K 26/34 ( 201 4.01) , B23K 26/064 ( 201 4.01) , B33Y 10/00 ( 201 5.01) , B33Y 30/00 ( 201 5.01) , B22F 3/105 ( 200 6.01) , B22F 3/16 ( 200 6.01) , B29C 64/153 ( 201 7.01) , B29C 64/277 ( 201 7.01) , B29C 64/286 ( 201 7.01) , B28B 1/30 ( 200 6.01)

FI (10件)：

B23K 26/34 , B23K 26/064 Z , B33Y 10/00 , B33Y 30/00 , B22F 3/105 , B22F 3/16 , B29C 64/153 , B29C 64/277 , B29C 64/286 , B28B 1/30

引用特許：

審査官引用 (3件)

積層造形装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-274351 出願人：富士写真フイルム株式会社
デジタルマイクロミラー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-101257 出願人：プラスビジョン株式会社
プリンタ
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-048615 出願人：富士写真フイルム株式会社

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