特許
J-GLOBAL ID：202203011583372938
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-000367
公開番号（公開出願番号）：特開2018-186263
特許番号：特許第7033926号
出願日： 2018年01月05日
公開日（公表日）： 2018年11月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマ処理の対象となる被処理体が載置され、外周に沿って外側へ突出し、周方向の3以上の位置に軸方向に貫通する貫通穴が形成されたフランジ部が設けられた第1の載置台と、 前記第1の載置台の外周に設けられ、フォーカスリングが載置され、内部に温調機構が設けられ、前記第1の載置台の外周に沿って前記フランジ部の上部に配置され、前記フランジ部と対向する下面の前記貫通穴に対応する位置に、前記貫通穴に挿入される柱状部が設けられた第2の載置台と、 前記貫通穴に対して前記柱状部を軸方向に移動させることで前記第2の載置台を昇降させる昇降機構と、 前記貫通穴に設けられ、前記柱状部と接触してシールする第1シール部材と、 前記第1の載置台と前記第2の載置台とが軸方向に並行する面に設けられ、前記第1の載置台と前記第2の載置台との間をシールする第2シール部材と、 前記第1の載置台と前記第2の載置台との間の前記第1シール部材と前記第2シール部材により形成される空間を減圧する減圧部と、 を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 G
, H05H 1/46 M
, H05H 1/46 B
