特許

J-GLOBAL ID：202203011848301850

結晶次亜処理気体の発生装置および発生方法

発明者： 劉 丹 ,  岩田 登一 ,  江島 靖和 ,  大坪 誠一郎
出願人/特許権者： 独立行政法人国立高等専門学校機構
代理人 (1件)： 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-135666
公開番号（公開出願番号）：特開2022-032147
出願日： 2020年08月11日
公開日（公表日）： 2022年02月25日
要約：

【課題】次亜塩素酸塩の結晶を用いて、長期間、安定した塩素含有ガスを発生させる。 【解決手段】本発明の塩素含有ガス発生装置(100)は、次亜塩素酸塩の結晶(1)に空気を接触させて塩素含有ガスを発生させる構成であり、次亜塩素酸塩の結晶(1)を冷却した状態で保持する結晶冷却部(20)と、次亜塩素酸塩の結晶(1)と接触させる前に、空気を除湿及び冷却する気体除湿冷却部(10)と、を備える。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

次亜塩素酸塩の結晶に原料気体を接触させて塩素含有ガスを発生させる塩素含有ガス発生装置であって、 前記次亜塩素酸塩の結晶を冷却した状態で保持する結晶冷却部と、 前記次亜塩素酸塩の結晶と接触させる前に、前記原料気体を除湿及び冷却する気体除湿冷却部と、を備える塩素含有ガス発生装置。

IPC (5件)：

C01B 7/03 ,  A61L 9/01 ,  A61L 9/12 ,  C02F 1/50 ,  B01D 53/26

FI (9件)：

C01B7/03 A ,  A61L9/01 F ,  A61L9/12 ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520A ,  C02F1/50 531P ,  C02F1/50 550D ,  C02F1/50 540A ,  B01D53/26 200

Fターム (12件)：

4C180AA07 ,  4C180AA10 ,  4C180CA06 ,  4C180EA58X ,  4C180GG16 ,  4C180JJ01 ,  4D052AA02 ,  4D052CE00 ,  4D052GA04 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03 ,  4D052HA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 殺菌方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-040121   出願人：独立行政法人国立高等専門学校機構, 株式会社カネカ

審査官引用 (1件)

• 殺菌方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-040121   出願人：独立行政法人国立高等専門学校機構, 株式会社カネカ