特許
J-GLOBAL ID:202203011907690229

被覆フォトクロミック微粒子の製造方法およびそれを用いた被覆フォトクロミック微粒子の製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 中道 佳博 ,  藤原 有希
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2021-121068
公開番号(公開出願番号):特開2022-039987
出願日: 2021年07月21日
公開日(公表日): 2022年03月10日
要約:
【課題】 使用するフォトクロミック化合物の種類に関わらず、所望のフォトクロミック微粒子を効率良く製造することのできる、被覆フォトクロミック微粒子の製造方法およびそれを用いた被覆フォトクロミック微粒子の製造装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の被覆フォトクロミック微粒子の製造方法は、フォトクロミック芯材粒子と高分子と極性溶媒と低極性有機溶媒との予備混合物に超音波を直接照射してO/Wエマルションを調製する工程、閉塞された容器内において、O/Wエマルションを超臨界流体と混合する工程、および閉塞された容器内を開放する工程を包含する。 【選択図】 図6
請求項(抜粋):
被覆フォトクロミック微粒子の製造方法であって、 フォトクロミック芯材粒子と高分子と極性溶媒と低極性有機溶媒との予備混合物に超音波を直接照射してO/Wエマルションを調製する工程、 閉塞された容器内において、該O/Wエマルションを超臨界流体と混合する工程、および 該閉塞された容器内を開放する工程、 を包含する、方法。
IPC (1件):
C09K 9/02
FI (1件):
C09K9/02 B
引用特許:
出願人引用 (4件)
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