特許
J-GLOBAL ID:202203013517592288

可変周波数発生器を用いるスマート高周波パルス調整

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安齋 嘉章
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):US2018017980
特許番号:特許第7025440号
出願日: 2018年02月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 マルチレベルパルス高周波電力を使用するプラズマ強化基板処理システムで基板を処理する方法であって、 (a)第1デューティサイクルの間に、複数の高周波発生器からの複数のパルス高周波電力波形を含む、基板を処理するための処理レシピを受け取る工程と、 (b)第1デューティサイクルを複数の均等な時間間隔に分割する工程と、 (c)各高周波発生器について、すべての間隔のための周波数指令セットを決定し、周波数指令セットを高周波発生器に送信する工程であって、周波数指令セットは、複数の均等な時間間隔の各間隔のための周波数設定点を含んでいる工程と、 (d)各高周波発生器に送信された周波数指令セットに従って、第1デューティサイクルの間に、複数の高周波発生器から処理チャンバへ複数の高周波電力波形を供給する工程とを含む方法。
IPC (2件):
H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05H 1/46 R ,  H01L 21/302 101 B ,  H01L 21/302 101 G

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