特許

J-GLOBAL ID：202203014110833856

荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

発明者： 野村 春之 ,  上久保 貴司
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (6件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  赤岡 明 ,  川崎 康
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-094858
公開番号（公開出願番号）：特開2019-201111
特許番号：特許第7034825号
出願日： 2018年05月16日
公開日（公表日）： 2019年11月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 描画対象物を載置するステージを収納する描画室と、 前記ステージに載置された前記描画対象物に荷電粒子ビームを照射するビーム照射部と、 前記ステージを移動させるステージ駆動部と、 前記ステージの移動履歴情報に基づいて、前記描画室内の熱源による前記描画対象物の温度分布を計算する温度分布計算部と、 前記ステージに載置された前記描画対象物の拘束条件と、前記計算された温度分布とに基づいて、前記描画対象物の変形量を計算する変形量計算部と、 前記計算された変形量に基づいて、前記描画対象物への荷電粒子ビームの照射位置を補正する位置補正部と、を備え、 前記ビーム照射部は、前記位置補正部で補正された照射位置に基づいて前記荷電粒子ビームを照射する、荷電粒子ビーム描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 541 D ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B