特許

J-GLOBAL ID：202203015543789041

光学面を研磨する方法及び光学素子

発明者： ユルゲン ホフマン ,  ロバート フィシャル ,  フランツ-ヨーゼフ スティッケル ,  マンフレッド マテナ ,  マーク セイトナー
出願人/特許権者： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  杉村 光嗣 ,  橋本 大佑
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-528789
公開番号（公開出願番号）：特開2021-119393
特許番号：特許第7053925号
出願日： 2016年11月16日
公開日（公表日）： 2021年08月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 研磨工具(6)において平面として形成されている研磨面(7)の回転軸(8)に関する回転運動により光学面(2)を研磨する方法であって、 自由曲面として具現された前記光学面(2)の側方に隣接する区域(3)の各場所(P)で局所非点収差(Δz)が閾値(ΔzS)を超えないように前記区域(3)の形状を計算によって求めるステップと、 求められた前記区域(3)の形状が前記区域(3)で作られるように前記区域(3)を機械加工するステップと、 前記光学面(2)と、前記区域(3)とにわたって、前記研磨工具(6)の前記研磨面(7)を動かすことにより、前記光学面(2)を研磨するステップと、を含み、 前記局所非点収差(Δz)は、Δz=(kmax-kmin)/8D2であり、式中、Dは前記研磨工具(6)の前記研磨面(7)の直径を示し、kminは前記区域(3)の各場所(P)での最小局所曲率を示し、kmaxは前記区域(3)の各場所(P)での最大局所曲率を示す、方法。

IPC (5件)：

G02B 5/08 ( 200 6.01) ,  G02B 5/26 ( 200 6.01) ,  G02B 5/28 ( 200 6.01) ,  B24B 13/04 ( 200 6.01) ,  G02B 3/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G02B 5/08 C ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/28 ,  B24B 13/04 G ,  G02B 3/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特許第7118449号
  
• 研磨方法及び光学素子及び光学素子の成形用金型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-245140   出願人：キヤノン株式会社
• 曲面加工法及び加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-267941   出願人：株式会社リコー
• 特開昭59-058415
  
• 研磨工具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-176523   出願人：キヤノン株式会社