シリカ粒子分散体及び表面処理シリカ粒子

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人安富国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-091165
公開番号（公開出願番号）：特開2021-042124
特許番号：特許第7070646号
出願日： 2016年04月28日
公開日（公表日）： 2021年03月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】シリカ粒子表面の水酸基の少なくとも一部がフェニルアルコキシシラン由来の基で置換され、疎水化度が15~35%であり、150~210°Cでの気化水分量が600ppm以下であることを特徴とする表面処理シリカ粒子。

IPC (4件)：

C01B 33/145 ( 200 6.01) , C08L 101/00 ( 200 6.01) , C08K 9/06 ( 200 6.01) , C08K 3/36 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C01B 33/145 , C08L 101/00 , C08K 9/06 , C08K 3/36

引用特許：

審査官引用 (5件)

トナーおよびトナーの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-188029 出願人：キヤノン株式会社
無機フィラー及びその製造方法、樹脂組成物、及び成形品
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-211260 出願人：株式会社アドマテックス
特開昭46-001312

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