特許

J-GLOBAL ID：202203019023416230

基板の応力を決定する方法、リソグラフィプロセス、リソグラフィ装置、及びコンピュータプログラム製品を制御するための制御システム

発明者： ファン ハレン、リチャード、ヨハネス、フランシスクス ,  ファン デイク、レオン、パウル ,  マラコフスキー、イリヤ ,  オッテン、ロナルド、ヘンリクス、ヨハネス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  青木 武司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：EP2018053013
特許番号：特許第7073391号
出願日： 2018年02月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板の応力を決定する方法であって、 基板に適用された少なくとも1つの第1のフィーチャーの測定位置と少なくとも1つの第2のフィーチャーの測定位置との間の測定位置差を決定し、 前記第1のフィーチャー及び前記第2のフィーチャーは、前記測定位置を測定するために使用されるリソグラフィ装置の単一露光画像フィールド内に配置され、 前記測定された位置差から基板内の局所応力を決定し、前記方法は、複数のフィーチャー対から複数の測定位置差を決定することをさらに含み、各フィーチャー対は基板上の異なる位置に配置され、前記少なくとも1つの第1のフィーチャーの1つと、前記少なくとも1つの第2のフィーチャーの1つを含み、測定された各位置差から基板の局所応力を決定し、局所応力に基づいて、基板上の応力変動を示す応力フィンガープリントを決定する、方法。

IPC (4件)：

G03F 9/00 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G01B 11/16 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G03F 9/00 H ,  G03F 7/20 521 ,  G01B 11/16 H ,  H01L 21/68 F