フォトマスクずらし法による高速人工散乱体作製技術の開発

実施期間：2014 - 2015
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , システム情報学研究科, 教授 )
研究概要：

人工散乱体作製技術はセキュリティ用情報秘匿メディアや複雑な散乱体構造をもつ生体模擬材料などの様々な応用が期待されている。本研究では、フォトマスクによる微細空孔パターンの一括作製と、フォトマスクの位置ずれによる積層ずらし構造とすることで散乱体として利用可能なことを数値シミュレーションにより実証するとともに、空孔体積率と等価散乱係数の間に比例関係が成り立つことを明らかにした。空孔径が2 μmの場合に空孔体積率12%で1 mm-1 の等価散乱係数となる結果を得た。提案した散乱体作製技術により作製時間の短縮と大面積化を可能とし、人工散乱体を利用する散乱エンジニアリングの応用に向けた成果を得た。

, , , , ,

研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る