研課題
J-GLOBAL ID：202204004266328785
研究課題コード：14539968
金属基板を腐食する強アルカリ現像液を不要とする水現像可能なMEMS加工用レジスト材料の開発
実施期間：2014 - 2015
実施機関 (1件)：
研究責任者：
(
, 工学部, 准教授 )
研究概要：
レジスト材料の主原料用途としてバイオマス資源の副産物である糖鎖化合物を用い、MEMS加工に必要とされる100 nmのナノパターンを解像可能とする微細加工性を有し、かつMEMS加工用金属基板を腐食する既存標準品の強アルカリ現像液 水酸化テトラメチルアンモニウムを不要とする、フォトリソグラフィ用水現像性レジスト材料の開発を目的とした。植物性天然原料である糖鎖やセルロース化合物を分解・分離・精製し、水現像に最適な分子量分布を有するMEMS加工用レジスト材料組成物がガロンスケールで製造できた。本経費で購入した研究用微細加工装置と量産装置により、目標を超える75 nmのナノパターンを解像できる良好な大面積加工特性を確認した。目標としていた中規模スケールの合成に成功し、平成27年10月より少量サンプル出荷を開始した。一年間の成果として、国際学術論文 2件 、国際国内会議 9件、展示会(Nano tech 2015) 1件、及び新聞(日刊工業新聞 大学面トップ記事) 2件の発表を行った。当初目標に向けて順調に研究が進展し、期待以上の成果が得られた。東証一部上場企業と実需化のための共同研究を開始することになった。
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