特許

J-GLOBAL ID：202303009287031222

配位高分子膜及び配位高分子膜の製造方法

発明者： 西原 寛 ,  タン チューン メーング ,  福居 直哉 ,  パル ティグマンス
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 弁理士法人太陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-188145
公開番号（公開出願番号）：特開2023-074937
出願日： 2021年11月18日
公開日（公表日）： 2023年05月30日
要約：

【課題】整流特性を示す配位高分子膜及び配位高分子膜の製造方法を提供する。 【解決手段】Fe、Co、Ni、Cu、Pd又はPtから選ばれる遷移金属原子を中心金属として有し、硫黄原子が配位した特定の2種の構成単位から選択される構成単位を含む第1領域と、Fe、Co、Ni、Cu、Pd又はPtから選ばれる第1領域とは異なる遷移金属原子を中心金属として有し、硫黄原子が配位した特定の2種の構成単位から選択される構成単位を含む第2領域と、を含む配位高分子膜及びその製造方法を提供する。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される構成単位又は下記式(2)で表される構成単位を含む第1領域と、下記式(3)で表される構成単位又は下記式(4)で表される構成単位を含む第2領域と、を含む配位高分子膜。

IPC (1件)：

C08G 79/00

FI (1件)：

C08G79/00

Fターム (9件)：

4J030CA02 ,  4J030CA03 ,  4J030CB14 ,  4J030CC02 ,  4J030CC04 ,  4J030CC30 ,  4J030CE02 ,  4J030CF06 ,  4J030CG03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• エレクトロクロミックシート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-059067   出願人：国立大学法人東京大学, 東海光学株式会社