特許
J-GLOBAL ID：202303009673887344
初代培養方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
松沼 泰史
, 鈴木 史朗
, 清水 雄一郎
, 大槻 真紀子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2023-065826
公開番号（公開出願番号）：特開2023-085557
出願日： 2023年04月13日
公開日（公表日）： 2023年06月20日
要約：
【課題】特別に増殖因子や何らかの阻害剤を加えることなく、一般的な細胞培養に用いられる培養培地を用いて、生体から採取された組織(生体組織)中の細胞を初代培養する方法の提供。
【解決手段】生体から採取した組織に含まれている細胞をインビトロで初代培養する初代培養方法であって、カチオン性緩衝液中で、少なくとも間質を構成する細胞を含む細胞と強電解質高分子と細胞外マトリックス成分とを混合して混合物を得る工程(a)と、前記工程(a)により得られた前記混合物を、細胞培養容器中に播種する工程(b)と、前記工程(b)の後、前記細胞培養容器中に、少なくとも間質を構成する細胞を含む細胞が多層に積層された細胞構造体を得る工程(c)と、により、単層の又は2以上の細胞層が厚み方向に積層されている細胞構造体を構築した後、前記細胞構造体の天面に、生体から採取した組織中の細胞を播種し培養する、初代培養方法。
【選択図】なし
請求項（抜粋）：
生体から採取した組織に含まれている細胞をインビトロで初代培養する初代培養方法であって、
カチオン性緩衝液中で、少なくとも間質を構成する細胞を含む細胞と強電解質高分子と細胞外マトリックス成分とを混合して混合物を得る工程(a)と、
前記工程(a)により得られた前記混合物を、細胞培養容器中に播種する工程(b)と、
前記工程(b)の後、前記細胞培養容器中に、少なくとも間質を構成する細胞を含む細胞が多層に積層された細胞構造体を得る工程(c)と、
により、単層の又は2以上の細胞層が厚み方向に積層されている細胞構造体を構築した後、前記細胞構造体の天面に、生体から採取した組織中の細胞を播種し培養する、初代培養方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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