特許
J-GLOBAL ID:202303012549977468
自己修復性高分子を製造するための組成物、自己修復性高分子及び自己修復性材料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
弁理士法人太陽国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2022-164356
公開番号(公開出願番号):特開2023-159014
出願日: 2022年10月12日
公開日(公表日): 2023年10月31日
要約:
【課題】熱などの外部刺激により自己修復性を有する自己修復性高分子を製造可能な組成物の提供。
【解決手段】カルボキシアルキルセルロースと、エポキシ基を2つ以上含むエポキシ化合物と、を含む、自己修復性高分子を製造するための組成物。
【選択図】なし
請求項(抜粋):
カルボキシアルキルセルロースと、エポキシ基を2つ以上含むエポキシ化合物と、を含む、自己修復性高分子を製造するための組成物。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (13件):
4J036AA01
, 4J036AB01
, 4J036AB02
, 4J036AB03
, 4J036AB10
, 4J036DB18
, 4J036FB18
, 4J036GA08
, 4J036GA10
, 4J036GA11
, 4J036GA15
, 4J036GA17
, 4J036GA29
引用特許:
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