特許

J-GLOBAL ID：202303021278423460

ギ酸の精製方法

発明者： 鈴木 孝宗 ,  寺島 千晶 ,  石田 直哉 ,  勝川 るみ ,  藤嶋 昭
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 弁理士法人太陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-181153
公開番号（公開出願番号）：特開2023-069361
出願日： 2021年11月05日
公開日（公表日）： 2023年05月18日
要約：

【課題】有機化合物を用いずに、簡易な装置構成で、ギ酸水溶液からギ酸を精製することができるギ酸の精製方法が提供される。 【解決手段】ギ酸の精製方法は、濃縮工程を含む。前記濃縮工程では、ギ酸水溶液を細孔径が0.30nm以上0.40nm未満であるゼオライト膜を含む第1分離膜に浸透気化法又は蒸気透過法によって接触させ、前記第1分離膜を透過していないギ酸水溶液を回収する。 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ギ酸水溶液を細孔径が0.30nm以上0.40nm未満であるゼオライト膜を含む第1分離膜に浸透気化法又は蒸気透過法によって接触させ、前記第1分離膜を透過していないギ酸水溶液を回収して濃縮する工程を含む、ギ酸の精製方法。

IPC (4件)：

C07C 51/47 ,  B01D 71/02 ,  B01D 61/36 ,  C07C 53/02

FI (4件)：

C07C51/47 ,  B01D71/02 ,  B01D61/36 ,  C07C53/02

Fターム (28件)：

4D006GA25 ,  4D006GA28 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006JA54Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KB01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB06 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC04 ,  4D006MC05 ,  4D006PA02 ,  4D006PB12 ,  4D006PB70 ,  4H006AA02 ,  4H006AD17 ,  4H006AD19 ,  4H006BD60 ,  4H006BD84 ,  4H006BS10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 導電性ダイヤモンド電極を用いたギ酸製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-037580   出願人：学校法人慶應義塾, 学校法人東京理科大学