高密度実装のための高速・高精度・高解像度印刷プロセスの開発

体系的課題番号：JPMJTR222D
実施期間：2022 - 2025
実施機関 (2件)： ,
企業責任者：
研究責任者： ( , センシングシステム研究センター, 上級主任研究員 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTR222D
研究概要：

高密度実装の再配線プロセスを劇的に高速化させるために、シーズ技術である「付着力コントラスト印刷」をベースとして、本プロセスのキーテクノロジーである刷版を、最小線幅2μmレベルのパターンを実用可能なレベルまで高精度・耐久性を高度化させ、さらに刷版の座標精度を担保するために、貼合時の原版歪みを抑え精密温度制御された製版装置を開発し、高速、高精度、高解像度をすべて満たす印刷プロセスを確立させる。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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