特許

J-GLOBAL ID：202503013716933746

ガス分離膜の製造方法、及びガス分離膜

発明者： 吉岡 朋久 ,  中川 敬三 ,  新谷 卓司 ,  安成 竜輝 ,  家迫 遼介 ,  冨澤 深雪
出願人/特許権者： 国立大学法人神戸大学
代理人 (1件)： 弁理士法人アスフィ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-028826
公開番号（公開出願番号）：特開2022-129937
特許番号：特許第7709185号
出願日： 2021年02月25日
公開日（公表日）： 2022年09月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ガス分離膜を製造するための方法であって、 シランアルコキシドまたはアルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、下記式(I)で表されるβ-ジケトン配位子、触媒、下記式(II)で表されるヒドロキシエーテル溶媒、及び水を含む複合金属ゾルを調製する工程、[式中、 R1~R3は、独立して、H、又は置換基αを有していてもよいC1-6アルキル基を示し、 R4は、C1-2アルキル基を示し、 R5は、C1-4アルカンジイル基を示し、 置換基αは、ハロゲノ基、C1-6アルコキシ基、及びC1-6アルコキシ-[-R6-O-]n-基(式中、R6は、C1-4アルカンジイル基を示し、nは1以上、5以下の整数を示す。)から選択される1以上の置換基を示す。] 前記複合金属ゾルを成形して加熱することにより複合金属ゲル膜を調製する工程、及び、 前記複合金属ゲル膜を焼成することによりガス分離膜を製造する工程を含み、 前記チタンアルコキシドに対する前記シランアルコキシドまたはアルミニウムアルコキシドのモル比が0.2以上、1.2以下であることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

B01D 71/02 ( 200 6.01) ,  C01G 23/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

B01D 71/02 500 ,  C01G 23/00 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 多孔質体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-312220   出願人：京セラ株式会社
• 金属酸化物ゾルを用いた多孔質体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-219851   出願人：京セラ株式会社
• 特開平2-196076
  
• 多孔質体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-038702   出願人：京セラ株式会社