文献
J-GLOBAL ID:200902001942909363
整理番号:88A0227322
マグネトロンスパッタリングによるエピタキシャルInSb膜の製作
The preparation of epitaxial InSb films by magnetron sputtering.
著者 (4件):
WEBB J B
,
HALPIN C
,
EHRISMANN J
,
NOAD J P
(Communications Research Centre, Ont., CAN)
資料名:
Canadian Journal of Physics
(Canadian Journal of Physics)
巻:
65
号:
8
ページ:
872-877
発行年:
1987年08月
JST資料番号:
B0229A
ISSN:
0008-4204
CODEN:
CJPHAD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
カナダ (CAN)
言語:
英語 (EN)