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著者 (3件)：
資料名：
巻： 31 号： 12B ページ： 4316-4320 発行年： 1992年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902002100269494
整理番号：93A0168636
KrFエキシマレーザリソグラフィーにおける単分散PHS系ポジ型レジスト(MDPR)の特性
Characteristics of a Monodisperse PHS-Based Positive Resist (MDPR) in KrF Excimer Laser Lithography.
KAWAI Y
(NTT LSI Lab., Kanagawa)
,
TANAKA A
(NTT LSI Lab., Kanagawa)
,
MATSUDA T
(NTT LSI Lab., Kanagawa)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 31 号： 12B ページ： 4316-4320 発行年： 1992年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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