文献
J-GLOBAL ID:200902003471824438
整理番号:84A0273339
高周波プラズマ蒸着による非晶質水素化硬質炭素薄膜 作製,特性および応用
rf-Plasma deposited amorphous hydrogenated hard carbon thin films: Preparation, properties, and applications.
著者 (4件):
BUBENZER A
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, West Germany)
,
DISCHLER B
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, West Germany)
,
BRANDT G
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, West Germany)
,
KOIDL P
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, West Germany)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
54
号:
8
ページ:
4590-4595
発行年:
1983年08月
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)