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著者 (5件)：
資料名：
巻： 39 号： 4 ページ： 257-268 発行年： 1986年04月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902014213696915
整理番号：86A0353911
Siウエハ上の酸化物層の赤外分光による研究
Infrared spectroscopy of oxide layers on technical Si wafers.
GROSSE P
(Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany)
,
HARBECKE B
(Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany)
,
HEINZ B
(Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany)
,
MEYER R
(Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany)
,
OFFENBERG M
(Rheinisch-Westfaelische Technische Hochschule Aachen, Fed Rep Germany)
資料名：
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 39 号： 4 ページ： 257-268 発行年： 1986年04月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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