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著者 (3件)：
資料名：
巻： 30 号： 8 ページ： 1803-1807 発行年： 1991年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902014759440580
整理番号：91A0791915
プラズマ処理によりヘキサメチルジシロキサンとSiOとから作製したハイブリッド膜
Hybrid Films Formed from Hexamethyldisiloxane and SiO by Plasma Process.
KASHIWAGI K
(Toyo Univ., Saitama)
,
YOSHIDA Y
(Toyo Univ., Saitama)
,
MURAYAMA Y
(Toyo Univ., Saitama)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 30 号： 8 ページ： 1803-1807 発行年： 1991年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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