文献
J-GLOBAL ID:200902015623613126
整理番号:89A0435866
アルミニウムとシリコンの窒化酸化物のイオン援助蒸着
Ion assisted deposition of oxynitrides of aluminum and silicon.
著者 (4件):
AL-JUMAILY G A
(Barr Assoc. Inc., MA, USA)
,
MOONEY T A
(Barr Assoc. Inc., MA, USA)
,
SPURGEON W A
(Army Materials Technology Lab., MA, USA)
,
DAUPLAISE H M
(Army Materials Technology Lab., MA, USA)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
7
号:
3 Pt.2
ページ:
2280-2285
発行年:
1989年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)