文献
J-GLOBAL ID:200902019328225721
整理番号:92A0332109
イオン注入の損傷発生によるGaAs接合の降伏電圧特性の改良
Improvement of breakdown voltage characteristics of GaAs junction by damage-creation of ion-implantation.
著者 (4件):
SHIMAMOTO Y
(Matsushita Electronics Corp., Osaka, JPN)
,
TANAKA T
(Matsushita Electronics Corp., Osaka, JPN)
,
ITAKURA K
(Matsushita Electronics Corp., Osaka, JPN)
,
UEDA D
(Matsushita Electronics Corp., Osaka, JPN)
資料名:
Institute of Physics Conference Series
(Institute of Physics Conference Series)
号:
120
ページ:
199-202
発行年:
1992年
JST資料番号:
E0403B
ISSN:
0305-2346
CODEN:
IPHSAC
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)