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著者 (3件)：
資料名：
巻： 135 号： 1 ページ： 176-179 発行年： 1988年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902020931237562
整理番号：88A0216884
VLSIに応用のためのモリブデンおよびタングステンの存在における湿水素酸化
Wet hydrogen oxidation in the presence of molybdenum and tungsten for VLSI applications.
KWASNICK R F
(General Electric Co., NY, USA)
,
GORCZYCA T B
(General Electric Co., NY, USA)
,
WOODRUFF D W
(General Electric Co., NY, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 135 号： 1 ページ： 176-179 発行年： 1988年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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