文献
J-GLOBAL ID:200902022701000370
整理番号:93A0190275
Acid-diffusion effect on nanofabrication in chemical amplification resist.
著者 (3件):
YOSHIMURA T
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
NAKAYAMA Y
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
OKAZAKI S
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
10
号:
6
ページ:
2615-2619
発行年:
1992年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)