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著者 (3件)：
資料名：
巻： 6 号： 1 ページ： 379-383 発行年： 1988年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902023135790976
整理番号：88A0380627
4μC/cm2の感度を有するノボラック系高分解能ネガ型電子ビームレジストの特性
Characterization of a high-resolution novolak based negative electron-beam resist with 4μC/cm2 sensitivity.
LIU H-Y
(Hewlett Packard Co., CA, USA)
,
DEGRANDPRE M P
(Rohm & Haas Co., PA, USA)
,
FEELY W E
(Rohm & Haas Co., PA, USA)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 6 号： 1 ページ： 379-383 発行年： 1988年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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