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資料名：
巻： 65 号： 4 ページ： 1707-1712 発行年： 1989年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902027117733707
整理番号：89A0347288
2×2個球ターゲットのプラズマ源イオン注入ドーズの均一性
Plasma source ion implantation dose uniformity of a 2×2 array of spherical targets.
CONRAD J R
(Univ. Wisconsin, WI, USA)
,
BAUMANN S
(Charles Evans and Assoc. Inc., CA, USA)
,
FLEMING R
(Charles Evans and Assoc. Inc., CA, USA)
,
MEEKER G P
(Charles Evans and Assoc. Inc., CA, USA)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 65 号： 4 ページ： 1707-1712 発行年： 1989年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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