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著者 (5件)：
資料名：
巻： 31 号： 4B ページ： L511-L514 発行年： 1992年04月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902029984166656
整理番号：92A0363779
ArFエキシマレーザ蒸着により成長させたエピタキシャルSrTiO3薄膜
Epitaxial SrTiO3 Thin Films Grown by ArF Excimer Laser Deposition.
HIRANO T
(Osaka Univ., Osaka)
,
FUJII T
(Osaka Univ., Osaka)
,
FUJINO K
(Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo)
,
SAKUTA K
(Osaka Univ., Osaka)
,
KOBAYASHI T
(Osaka Univ., Osaka)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 31 号： 4B ページ： L511-L514 発行年： 1992年04月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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