文献
J-GLOBAL ID:200902031178200334
整理番号:87A0079235
大型のMOCVD炉を用いたGaAs/AlGaAs量子井戸構造の成長
Growth of GaAs/AlGaAs quantum well structures using a large-scale MOCVD reactor.
著者 (5件):
OCHI S
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
HAYAFUJI N
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
KAJIKAWA Y
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
MIZUGUCHI K
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
,
MUROTANI T
(Mitsubishi Electric Co., Itami, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
77
号:
1/3
ページ:
553-557
発行年:
1986年09月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)