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資料名：
巻： 55 号： 2 ページ： 112-114 発行年： 1989年07月10日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902031399837698
整理番号：89A0489155
エキシマレーザアブレーションを用いたBaTiO3薄膜のエピタキシャル成長
Epitaxial growth of thin films of BaTiO3 using excimer laser ablation.
DAVIS G M
(Rutherford Appleton Lab., Oxfordshire, GBR)
,
GOWER M C
(Rutherford Appleton Lab., Oxfordshire, GBR)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 55 号： 2 ページ： 112-114 発行年： 1989年07月10日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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