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著者 (3件)：
資料名：
巻： 206 号： 1/2 ページ： 34-39 発行年： 1991年12月10日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902032348788990
整理番号：92A0191091
Mo/Ni,Mo/Co二層構造とシリコンとの相互作用
Interaction of Mo/Ni and Mo/Co bilayer structures with silicon.
RASTOGI R S
(Indian Inst. Technology, New Delhi, IND)
,
VANKAR V D
(Indian Inst. Technology, New Delhi, IND)
,
CHOPRA K L
(Indian Inst. Technology, New Delhi, IND)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 206 号： 1/2 ページ： 34-39 発行年： 1991年12月10日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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