文献
J-GLOBAL ID:200902034059162296
整理番号:92A0056552
Micro grating device using electron-beam lithography.
著者 (2件):
YAMASHITA T
(Omron Corp., Kyoto, JPN)
,
AOYAMA S
(Omron Corp., Kyoto, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1507
ページ:
81-93
発行年:
1991年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)