文献
J-GLOBAL ID:200902036779990652
整理番号:90A0786025
半導体性FeSi2薄膜の電子的性質
Electronic properties of semiconducting FeSi2 films.
著者 (6件):
DIMITRIADIS C A
(Maxz-Planck-Inst. Festkorperforschung, Stuttgart, DEU)
,
WERNER J H
(Maxz-Planck-Inst. Festkorperforschung, Stuttgart, DEU)
,
LOGOTHETIDIS S
(Maxz-Planck-Inst. Festkorperforschung, Stuttgart, DEU)
,
STUTZMANN M
(Maxz-Planck-Inst. Festkorperforschung, Stuttgart, DEU)
,
WEBER J
(Maxz-Planck-Inst. Festkorperforschung, Stuttgart, DEU)
,
NESPER R
(Maxz-Planck-Inst. Festkorperforschung, Stuttgart, DEU)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
68
号:
4
ページ:
1726-1734
発行年:
1990年08月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)